加工分模线边多板直身

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5．手工研磨抛光
1) 研磨抛光剂
(1) 磨料。磨料在机械式研磨抛光加工中对被加工表面起着微切削作用和微挤压塑性变形作用。磨料选择正确与否对加工起着重要作用。磨料的选择主要有磨料的种类和粒度。
磨料的种类有氧化铝磨料、碳化硅磨料、金刚石磨料、氧化铁磨料和氧化铬磨料等。常用磨料的主要物理机械性能见表2-18。一般根据被加工材料的软硬程度和表面粗糙度，以及研磨抛光的要求选择不同种类单料。常用磨料和适用范围见表2-19。
表2-18  常用磨料的主要物理机械性能 

表2-19  常用磨料及其适用范围

表2-20  磨料粒度及可以达到的加工表面粗糙度

(2) 研磨抛光液。研磨抛光液在研磨抛光过程中起着调合磨料、使磨料均匀分布和冷却润滑作用，通过改变磨料和研磨抛光液之间的比例来控制磨料在研磨抛光剂中的含。研磨抛光液有矿物油、动物油和植物油三类。10#机油应用普遍，煤油在粗、精加工中都可使用；动物油中含有油活性物，在研磨抛光过程中与被加工表面发生化学反应，可加速研抛过程，又能增加零件表面光泽。常用研磨抛光液及其用途见表2-21。
表2-21  常用研磨抛光液及其用途

(3) 研磨抛光膏。研磨抛光膏是由磨料和研磨抛光液组成的研磨抛光剂。研磨抛光膏分硬磨料研磨抛光膏和软磨料研磨抛光膏两类。
硬磨料研磨抛光膏中单料有氧化铝、碳化硅、碳化硼和金刚石等，常用粒度为200#、240#、W40等磨粉和微粉，磨料硬度应大于工件硬度。
软磨料研磨抛光膏中单料多为氧化铝、氧化铁和氧化铬等，粒度为W20及以下的微粉。软磨料研磨抛光膏中含有油活性物，使用时根据需要可以用煤油或稀释。 
2) 研磨抛光工具
(1) 研具材料。研磨抛光时直接和被加工表面接触的研磨抛光工具称为研具。研具的材料很广泛，原则上研具材料硬度应比被加工材料硬度低，但研具材料过软，会使磨粒全部嵌入研具表面而使切削作用降低。
一般研具材料有低碳钢、灰铸铁、黄铜和紫铜，硬木、竹片、塑料、皮革和毛毡也是常用材料。灰铸铁中含有石墨，所以耐磨性、润滑性及研磨效率都比较理想，灰铸铁研具用于淬硬钢、硬合金和铸铁材料的研磨。低碳钢强度比灰铸铁高，用于较小径的研磨。黄铜和紫铜用于研磨余较大的情况，加工效率也比较高。但铜研具加工后表面光泽性差，因此常用于粗研磨，再用灰铸铁研具进行精研磨。硬木、竹片、塑料和皮革等材料常用于窄缝、深槽及非规则几何形状的精研磨和抛光。
精密固定磨料研磨抛光研具的材料是低发泡氨甲(乙)脂油石，可进行精密加工，其研磨抛光机理也是微切削作用，当加工压力增大时，油石与加工表面接触压强增大，参加微切削单粒增多，从而加速研磨抛光过程。
(2) 普通油石。普通油石一般用于粗研磨，它由氧化铝、碳化硅磨料和粘结剂压制结而成。使用时，根据型腔形状磨成需要的形状，并根据被加工表面的粗糙度和材料硬度选择相应的油石。当被加工零件材料较硬时，应该选择较软的油石，否则反之。当被加工零件表面粗糙度要求较高时，油石要细一些，组织要致密些。
(3) 研磨平板。研磨平板主要用于单一平面及中小镶件端面的研磨抛光，如冲裁凹模端面、塑料模中的单一平面分型面等。研磨平板采用灰铸铁材料，并在平面上开设相交成60°或90°、宽1～3 mm、距离为15～20 mm的槽。研磨抛光时在研磨平板上放些微粉和抛光液进行。
(4) 外圆研磨环。外圆研磨环是在车床或磨床上对外圆表面进行研磨的一种研具。研磨环有固定式和可调式两类。固定式研磨环的研磨内径不可调节，而可调式研磨环的研磨内径可以在一定范围内调节，以适应环磨外圆不同或外圆变化的需要，参见图2.7所示。
(5) 内圆研磨芯棒。这是研磨内圆表面的一种研具，根据研磨零件的外形和结构不同，分别在钻床、车床或磨床上进行。研磨芯棒有固定式和可调式两类。固定式研磨芯棒的外径不可调节，芯棒外圆表面做有螺旋槽，以容纳研磨抛光剂。固定式研磨芯棒一般由模具钳工在钻床上进行较小尺寸圆柱的加工。可调节芯棒参见图2.7所示。芯棒长度应为研磨零件长度的2～3倍。
6．机械抛光
由于手工抛光要消耗很长的加工时间，劳动消耗大，因此对抛光的机械化、自动化要求非常强烈。随着现代技术的发展，在抛光加工中相继出现了电动抛光、电解抛光、超声波抛光以及机械?超声抛光、电解?机械?超声抛光等复合工艺。应用这些工艺可以减轻劳动强度，提高抛光的速度和。

图 2.65  圆盘式磨光机
(1) 圆盘式磨光机。图2.65所示是一种常见的电动抛光工具，用手握住对一些大型模具去除仿形加工后的走痕迹及倒角，其抛光精度不高，抛光程度接近粗磨。
(2) 电动抛光机。这种抛光机主要由电动机、传动软轴及手持式研抛头组成。使用时传动电机挂在悬挂架上，电机启动后通过软轴传动手持抛头产生旋转或往复运动。
电动抛光机备有三种不同的研抛头，以适应不同的研抛工作。
① 手持往复研抛头。这种研抛头工作时一端连接软轴，另一端安装研具或油石、锉等。在软轴传动下研抛头产生往复运动，可适应不同的加工需要。研抛头工作端还可按加工需要在270° 范围内调整，这种研抛头装上球头杆，配上圆形或方形铜(塑料)环作研具，手持研抛头沿研磨表面不停地均匀移动，可对某些小曲面或复杂形状的表面进行研磨，如图2.66所示。研磨时常采用金刚石研磨膏作研磨剂。

图2.66  手持往复式研抛头的应用
② 手持直式旋转研抛头。这种研抛头可装夹￠2～￠ 12 mm的特形金刚石砂轮，在软轴传动下作高速旋转运动，加工时像握笔一样握住研抛头进行操作，可对型腔的细小部位进行精加工，如图2.67所示。取下特形砂轮，装上打光球用的轴套，用塑料研磨套可研抛圆弧部位。装上各种尺寸的羊毛毡抛光头，可进行抛光工作。

图2.67  手持直式研抛头的应用
7．研磨抛光工艺过程  
1) 研抛余
研抛余大小取决于零件尺寸、原始表面粗糙度、精度和终的要求，原则上研抛余要能去除表面加工痕迹和变层即可。研抛余过大，将使加工时间增多，研抛工具和材料消耗增多，加工成本增大；研抛余过小，则加工后达不到要求的表面粗糙度和精度。
淬硬后的成形表面由Ra＝0.8 μm提高到Ra＝0.4μm时的研抛余为：
平面：0.015～0.03 mm。当零件的尺寸公差较大时，研抛余可以放在零件尺寸公差范围以内。 
内圆：当尺寸为?25～?125 mm时，取0.04～0.08 mm。
外圆：当d≤10 mm时，取0.03～0.04 mm；
当d≥10～30 mm时，取0.03～0.05 mm；
当d≥31～60 mm时，取0.04～0.06 mm。