| | 日本积水 | 产品规格 | 510MM | | 主要用途 | 保护菲林用 | CAS | 100 |
底片保護膜
SKY MASK 介紹 1.精細圖案型 #155RFP 2.高耐久型 #155RHD
精細圖案用#155RFP 系列 1.#155RFP 系列 減少UV 平行光源的散亂，提高30μm 以下 細線圖案的再現性 z 提供UV 領域的光線透過率 z 大幅減少卷入氣泡 #155RFP 打破以往“使用保護膜無法再 現精細圖案”的常識，這款采用積 水粘合劑技術與光學技術的新産 品甚至可以再現L/S=30 μm 以 下的圖案。 離型膜 25 μm #155RFP-AS（防靜電型） 在#155RFP 的特性上增加了防靜 電功能的型獭Ｄ苡行Х乐轨o電 産生的灰塵，碎屑附著。 高透明PET 膜 12μm 丙烯類粘合劑 8 μm 離型膜 25 μm #155RFP-HD（高耐久型） 在#155RFP 的特性上大幅提高 了離型層耐溶劑性的型獭Ｗ钸m 合強粘性的濕膜。 高透明PET 膜 12μm 丙烯類粘合劑 8 μm 離型層 增強層 離型膜 25 μm 項目 單位 #155RFP 材厚度 μm 12 粘合劑厚度 μm 8 對PET 的厚度 N/25mm 3.9 全光線透過率 % 91.6 400nm 光線透過率 % 85.1 HAZE % 1.1 防靜電層 丙烯類粘合劑8μm 特 點 本 特 性 産 品 系 列 高透明PET 膜12μ 2.壹次積層方式的特點 · 1）增層超過2 層的話，工藝複雜=良品率低 · 2）增層的層數越多，對已形成的再次施熱有可能會造成損壞 · 3）核心層不可缺少=成的限制 · 4）用電鍍的方式連接，成本較高 壹次積層方式的特點… 以往的增層式線路板的嗩}點? · 1）導體層，絕緣層可以分別准備 改善良品率，提高生産管理效率 · 2）成配置自由 · 3）絕緣材料的選擇多 · 4）使用耐熱性熱可塑性樹脂，對環境的適應性良好 2.爲了再現精細圖案…“光學特性” 要求性能（1）UV 光通過保護膜時不會産生發生散亂 300 400 500 600 700 800 波長（nm） #155RFP #155RASS 其他公司産品（K 公司） 280 300 320 340 360 380 400 420 440 460 480 500波長（nm） U 公司超高壓水銀燈不同波長的相對強度 保護膜導致光散亂的話，在曝光形成的圖案上會産生差異，造成圖案解析度的降低 資料1：光散亂性評價 HAZE︵%︶ 相對強度︵%︶ 2.爲了再現精細圖案…“光學特性” 要求性能（1）UV 光通過保護膜時不會産生發生散亂 保護膜導致光散亂的話，在曝光形成的圖案上會産生差異，造成圖案解析度的降低 資料2：GAP 與光散射的關系 2.爲了再現精細圖案…“沒有氣泡” 要求性能（2）貼合時氣泡少 （U 光） 氣泡
#155RFP 其他公司産品
邊緣模糊
#155RFP（氣泡少） 其他公司産品（氣泡多）
有氣泡的話，其導致的光折射會造成圖案解析度的降低 資料3：光折射的影響 資料4：壓膜時卷入氣泡的比較 資料5：圖案再現性的比較 2.爲了再現精細圖案…“沒有氣泡” 要求性能（3）貼合後氣泡殘留消失 剛剛貼合後 氣泡殘留
第二天
有氣泡的話，其導致的光折射會造成圖案解析度的降低 資料6：隨時間經過氣泡消失 2.爲了再現精細圖案…“沒有異物” 要求性能（4）異物極少 （ U 光） 異物氣泡
斷線處
資料8：斷線不良案例 底片與保護膜之間有異物的話，會發生斷線現象 高耐久型#155RHD 1.#155RHD 的特點 防止離型層的脫離，提高使用濕膜時的操作 性，大幅度提高曝光次數。 #155RHD 比以往的#155RASST 更加強化了離型功能的 産品。 丙烯類粘合4μm 離型層 強化層 離型膜 25 μm #15S-ST（防靜電/防黏附型） 在#155RFP 的特性上增加了防靜電功能的型 獭Ｄ苡行Х乐轨o電産生的灰塵，碎屑附著。 高透明PET 膜 6μm 丙烯類粘合劑4μm 離型層 防靜電層 離型膜 25 μm 項目 單位 #155RFP 材厚度 μm 6 粘合劑厚度μm 4 對PET 的厚度N/25mm 2.6 全光線透過率% 93.5 HAZE % 2.6 特 點 本 特 性 産 品 系 列 高透明PET 膜6μm 2. 爲了實現高耐久性…“耐濕膜性” 要求性能（1）濕膜不粘附在底片表面 · 油墨：太暧湍?PSR4000 AUS303 · 開口部：直徑80μm · 真空及曝光條件：曝光600mj/cm2、真空時間90sec、真空度70cmHG · 曝光開始 曝光50 次 曝光100 次
濕膜附著在底片上會導致光線透過率降低，從而造成圖案解析度降低
資料9：#155RHD 解像性實驗結果 2. 爲了實現高耐久性…“耐溶劑性” 要求性能（2）離型層不會因爲溶劑成分影響而脫落
1）在浸漬了高沸點溶劑胆布上施加200g 的負重，以規定的次數往返擦拭 2）用標准膠帶來測離型面的剝離力 反複緊貼曝光，濕膜中的溶劑造成矽層脫落 資料10：#155RHD 離型層耐久性實驗（單位：N/25mm） 離型力 FAQs(Frequently Asked Qusetions) A1：使用底片保護膜可得到以下效果 1）防止保管，咻敃r的底片化劃傷 2）防止緊貼曝光時的底片劃傷 3）增加底片無法具備的功能 離型性，耐溶劑性等 4）使異物管理變得容易 5）（使用銀鹽片時）防止底片的尺寸變化 Q1：爲什麽要使用底片保護膜？ 底片的乳劑含有大的水分，真空緊貼造成水分蒸發，是底片收縮的原因所在 膜 A2：使用平行光時，與不使用保護膜相比，在圖案再現性上沒有很大的差異。使用散 亂光時，3mil 以上的圖案是毫無疑喛梢栽佻F圖案的。有時會需要壹些調整如將曝光 提高幾個百分點等。 曝光 · 由于光學特性優異，曝光與不貼膜時是本壹樣的。 · 僅底片 453mj/cm2 #155RHD 454mj/cm2 Q2：使用保護膜的話，圖案解析度不會變差嗎？ ?※用積算光計測（n=5） A3：制作圖案時重氮片的感光不足，再次曝光會産生氮氣，這是氣泡産生的原因所在。 對策方法… 請嘗試通過確認，铡?/span> 1）請確認是否進行了充分的的顯影 2）制作重氮片圖案時提高曝光（=解決曝光不足） 3）制作完重氮片圖案後，不貼保護膜，反複空曝幾次 Q3：在重氮片上貼好保護膜開始曝光時，整面産生氣泡而無法使用。 大概爲重氮片從黃變爲透明的曝光的2-3倍放置1-2天再用也可（廠家經驗） 感光部分 未感光部分
壹光分解造成從重氮化合物中産生出氮氣 未感光的部分不發生光分解
二遊離的CI 與水分的H 結合形成HCI， 再與堿結合，形成穩定的化合物。 3OH 與原來的重氮化合物結合，形成無 的化合物 重氮化合物因爲光而分解，不會與 Coupler 發生反應（結合） 資料：重氮片的成像方法 壹 氮化合物中的CL 與Coupler 中的H 遊 離出來形成HCL，再與堿結合成穩定的化合物 二重氮化合物的N2 部分與Coupler 結合形 成素。
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