| 该设备适合于科研单位的研究或企单位的小批试样用，可在塑料、陶瓷、石英、玻璃、铁氧体等多种材上面溅镀各种金属和非金属薄膜，1-4路气体输入，可反应溅射多组元非金属功能薄膜。配备直流溅射、射频溅射、等离子清洗等多种功能，磁控溅射靶采用自行研制的圆形平面靶，该靶具有换靶容易、镀膜均匀性好、寿命长等点，所制备薄膜均匀、致密、附着力强。该设备采用PLC+触摸屏的自动控制解决方案，亦可手动操作，人机界面友好、操作简单；真空系统采用涡轮分子泵无油抽气，片可自转并公转，并有自动反馈恒温加热系统、具有适应性广、可镀膜层种类多、试样等点 该技术全制程无污染、产品欧盟RoHS标准，属绿制造非标设备。 设备型号SPK-400SPK-600 真空室尺寸Φ400X300Φ600X500 制膜种类多功能金属非金属膜、复合膜、透明导电膜、增反射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等电源类型直流磁控电源、射频频磁控电源靶类型圆形平面靶真空室结构钟罩式真空系统分子泵+旋片泵充气系统流控制仪（1-3路）极限真空6X10-4pa（空载、净室）抽气时间空载大气抽至5X10-3pa小于10分钟工件旋转方式公转，自转片尺寸3英寸控制方式手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
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