CVD-1200系统由开启式管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字流控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验, 适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥结等。
主要功能和特点：
1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成，高真空可达0.0001Pa；
2、可配合压强控制仪控制气体压力，实现负压的控制；
3、数字流控制系统是由多路流计，流显示仪等组成，实现气体的流的精密测和控制；
4、每条气体管路均配备高压逆止阀，保系统的安全性和连续均匀性；
5、采用KF快速法兰密封，装卸方便快捷；
6、管路采用Swagelok卡套连接，不漏气；
7、超温、过压时，自动切断加热电源及流计进气，使用安全可靠。
主要技术参数：
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YG-1206管式实验电炉
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控温方式
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采用人工智能调节技术，具有PID调节、自整定功能，并可编制30段升降温程序。
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加热元件
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0Cr27Al7Mo2
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工作电源
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AC220V 50Hz/60Hz
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额定功率
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4kw
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炉管材
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高纯石英管
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炉管尺寸
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Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
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工作温度
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≤1150℃
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高温度
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1200℃
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恒温精度
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±1℃
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恒温区
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200mm
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升温速度
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≤10℃/min
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密封方式
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不锈钢快速法兰挤压密封
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ZK-F
分子泵真空系统
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真空范围
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0.1-0.001Pa
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极限真空
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4.0*10^-4Pa
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产品配置
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双级旋片真空泵+分子泵
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测方式
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复合真空计
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真空规管
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电阻规+电离规
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冷却方式
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风冷
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工作电源
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AC220V 50/60HZ
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抽速
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110L/S
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ZDFC-Ⅲ
压强控制系统
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测范围
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5～1*10^-5 Pa
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稳压(真空)范围
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1～5*10^-3Pa
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压力(真空)稳定精度）
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±3%
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控制范围
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2.5*10^3～1*10^-4 Pa
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控制精度
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± 1%
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HQZ-Ⅲ
混气系统
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控制方式
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D07-7K流计,D08流显示仪
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流规格
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0－500SCCM /0－1SLM,（可根据客户需要配置）
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线性
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±1%
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准确度
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±1%
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重复精度
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±0.2%.
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响应时间
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≤2sec
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耐压
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3MPa
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气路通道
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3通道（根据客户需求）
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阀
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316不锈钢
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管道
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Φ6mm不锈钢管
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接口
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SwagelokΦ6mm
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