多晶硅、单晶硅清洗用水工艺流程
1、采用离子交换树脂制备电子工超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→多介过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
2、采用反渗透水处理与离子交换进行组合制备电子工超纯水的方式，其基本工艺流程为：原水→多介过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
3、采用反渗透与电去离子(EDI)进行搭配制备电子工超纯水的的方式，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→原水箱→原水泵→多介过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点。
多晶硅、单晶硅清洗用水工艺比较
目前制备电子工用超纯水的工艺基本上是以上三种，其余的工艺流程大都是在以上三种基本工艺流程的基础上进行不同组合搭配衍生而来。现将他们的缺点分别列于下面：
1、种采用离子交换树脂其点在于初投资少，占用的地方少，但缺点是需要经常进行离子再生，耗费大酸碱，而且对环境有一定的破坏。
2、第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换，其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高，但离子再生周期相对要长，耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。
3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置，这是目前制取超纯水经济，环保用来制取超纯水的工艺，不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水，对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式稍贵一点。
多晶硅、单晶硅清洗用水解决方案技术特点
1、超纯水用膜
采用膜表面高分子嫁接技术，产水TOC在20PPB以下，更适用电子级超纯水系统。
高TOC脱除率、高抗污染能力、低TOC溶出率，TOC达标冲洗时间短、配套电源技术，能耗更低。
2、电去离子技术
离子交换树脂再生不需要使用昂贵且有危害的化学品，降低了能源和运行费用、设施的大小要求。
采用新型均匀树脂包填充，有效提高脱盐率。
多晶硅_单晶硅清洗用水解决方案执行标准
出水水：
1、ASTM-D5127-2007《美国电子学和半导体工用超纯水标准》
2、欧盟电子级超纯水标准
3、电子工国家标准
      
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