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高纯氧化铪烧结颗粒,镀膜氧化铪圆片4N电子束镀膜
更新时间:2020-06-21
高纯氧化铪烧结颗粒,镀膜氧化铪圆片4N电子束镀膜
供应商
测试商家
商 铺
认证
普通会员
报价
1000
型号
20181129
品牌
产能
根据订货量
起订
10
交货期
双方洽谈商定
所在地
山东省泰安市宁阳县鹤山镇山后村207号
联系电话
未填
联系人
测试商家
联系时请一定说明在1024商务网看到
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产品详情
二氧化铪(分子式:HfO2)
品类
主要尺寸
颜色
纯度
包装
保存方式
晶体
颗粒
1-3 mm;3-5 mm
透明
99.99%
1公斤/袋
避光避酸干燥保存
烧结
压片
Ф10mm或颗粒
白色
产品参数:
CAS编号
密度(g/cm3)
熔点(℃)
折射率(550nm)
透明波度(μm)
蒸发源
12055-23-1
9.7
2812℃
n=2
0.2~9μ
B(W),E
用途
UV增透膜,干涉膜;适于电子枪蒸发,成膜致密稳定。紫外波段的良材料。
备注
规格可根据具体要求
氧化铪,二氧化铪 HFO2 氧化铪 铪氧化物 光学镀膜材料,二氧化铪颗粒 高纯二氧化铪烧结
化学符号:HfO2
外 观:白色
分 子 :210.49
密 度:9.7g/cm3
熔 点:2500℃
折 射 率(波长/nm):1.9-2.1(300)
1.84-2.0(2500)
沸 点:5400℃
线膨胀系数:5.8×10-6/℃(250-1300)
10ˉ4真空下蒸发温度为:2500℃
蒸发方式:电子束
透明波段/nm:235-2500
介电常数:20.5-23
比 容:0.05μF/cm2
电容温度系数TCC:(1.25~2.50)×10-4/℃
性 能:适于电子枪蒸发,成膜致密稳定。紫外波段的良材料。不溶于水,耐化学性,但在高温下能与氢氧化物起反应,膜坚硬;
应 用:主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近红外多层膜。
HfO2薄膜是一种绝缘氧化物,即可做薄膜电阻,又可做介子薄膜,一般用溅射法沉积制备。
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