一、真空管式炉用途
真空管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企等实验和小批生产之用。主要用于粉体、电子、陶瓷等其它产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等
二、真空管式炉结构
1.炉体采用双层炉壳结构，双层炉壳之间装有风机，可以快速升降温，炉壳表面温度低。
2.炉管采用99高纯刚玉管、两端采用SUS304高真空法兰密封。
3.炉膛材料采用的进口氧化铝多晶纤维真空吸附制成，节能50%，加热炉膛为一体化，方便取放实验物料、更换炉管。加热元件采用硅碳棒。
4.电炉温度控制系统采用人工智能调节技术，具有PID调节、模糊控制、自整定能力并可编制各种升温程序等功能，该控制系统温度显示精度为±1℃，温场稳定度±5℃，升温速率1~20℃可任意设置。
5.真空度可以达到10Pa
三、真空管式炉参数
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型号
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炉膛尺寸(mm)
(DxWxH)
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功率
(KW)
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高温度
(℃)
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额度温度
（℃）
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加热元件
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电压
（V）
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JW60/16
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Φ60×1000
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7
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1600
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1500
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硅钼棒
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380
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JW80/16
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Φ80×1000
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9
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1600
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1500
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硅钼棒
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380
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JWF100/16
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Φ100×1000
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9
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1600
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1500
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硅钼棒
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380
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注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！
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