氧化铝粒,三氧化二铝颗粒 三氧化二铝纯度99.99%,高纯铝颗粒,高纯铝片,AAO用铝箔片 化学符号:Al2O3 外 观:透明 规格:1-3mm 纯度:4N 密 度:4g/cm3 熔 点:2045℃ 沸 点:2980℃ 蒸发温度:1800℃ 蒸发方式:电子束 透明范围/nm:200-7000 折射率n(波长/nm):1.59(600)/1.56(1600) 基片温度为300℃时,λ=600nm,n=1.62;λ=1.6μm,n=1.59; 基片温度为40℃时, λ=600nm,n=1.59;λ=1.6μm,n=1.56; 蒸发源材料:W 、Mo 溶 解 于:纯酸、碱 薄膜的机械和化学性:形成光滑的硬膜 性 能:高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高强度、抗磨损、抗氧化、绝缘性好和表面积大等特点;不溶于水,微溶于强酸和强碱溶液,并能被氢氟酸和硫酸氢钾浸蚀; 高纯超细氧化铝的点:纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结; 应 用:增透膜,多层膜,防反膜,眼镜膜,保护膜 用 途:应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料; Al2O3膜的主要性能: 密 度/g?cm-3:3.1-4.0 电 阻 率/Ω?cm:1012-1013 折 射 率:1.72-1.76 禁带宽度eV:7 介电常数:7.5-9.6 产生龟裂厚度/μm:0.4 介电强度/V?cm-1:1×106-7×106 表面负电荷密度:3×1011-1012 红外吸收峰/μm:14-16 Al2O3-Si界面密度/(cm2?eV)-1: 1010-1011 Al2O3分析报告: Mn Cr Pb Ni V Nb 0.003 0.001 0.001 0.001 0.001 0.0001 Co Ta 0.001 0.001
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