| Ce:YAG晶体具有异机械和化学稳定性的快闪烁材料。Ce:YAG晶体闪烁探测器是电子成像、beta和X射线计数的选材料，同时也被用作电子和X射线的成像屏。Ce:YAG晶体的异的温度机械性能有利于制备出低于0.005mm厚度的超薄成像屏。在电子或者离子轰击下Ce:YAG晶体不产生损伤，适合应用于高电流环境。Ce:YAG晶体的发光峰位置位于560nm左右，很适合使用S20光电倍增管进行发射探测。在5KV之内以及超过100KV的更高加速电压下，Ce:YAG晶体比Planotec P47具有更好的响应，在该环境下粉末闪烁体性能开始下降，而Ce:YAG晶体的相应仍然保持线性增加。尽管Ce:YAG晶体的信号比P47弱，但是信噪比高，终端信号更好。Ce:YAG晶体的衰减时间为60ns。使用中为了避免光敏感，通常需要镀50nm的铝膜。Ce:YAG晶体，提拉法和温梯法生长，大直径110mm，厚度0.15-150mm本公司可根据客户要求不同尺寸的Ce:YAG晶体，并且可提供产品镀膜服务，具体价格请咨询 victia@ |
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