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当前位置:首页 > 产品大全 > 化工 > 无机酸 > 氢氟氟氢氟化氢氟化氢溶液40%55%国产 更新时间:2014-11-01

氢氟氟氢氟化氢氟化氢溶液40%55%国产

氢氟氟氢氟化氢氟化氢溶液40%55%国产
供应商 上海千峰化工有限公司 商 铺
认证普通会员
报价≥1:6000.00元/吨
型号咨询厂家
品牌
产能600吨
起订1
交货期7天
所在地中国上海上海市宝山区聚丰园路628弄164号1401室
联系电话8602161128048
手机号15800315066
联系人赵唯员 联系时请一定说明在1024商务网看到
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产品详情
 生产厂家/产地 浙江  用途级别 工级
 氢氟的含≥ 40%  执行标准 GB620-1993
 颜色/外观 无色透明发*液体  等级 Ⅱ类

名称

  中文名称:氟氢 ,氟化氢,氟化氢溶液   英文别名:Hydrofluoric acid ,Hydrofluoric acid 48%,Hydrofluoric acid 40%,Hydrofluoric acid 58-62%,Hydrofluoric acid 47-51%

化学式

  HF

相对分子

  20.01

性状

  无透明发*液体。为氟化氢气体的水溶液。呈弱性。有刺激性气味。与硅和硅化合物反应生成气态的四氟化硅,但对塑料、石蜡、铅、金、铂不起腐蚀作用。能与水和乙醇混溶。相对密度1.298。38.2%的氢氟为共沸混合物,共沸点112.2℃。有,小致死(大鼠,腹腔)25mG/kG。有腐蚀性,能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。如吸入蒸气或接触皮肤能形成较难愈合的溃疡。

储存

  塑料瓶密封阴凉保存。

用途

  测定二氧化硅。冶金金相分析。硅化合物分析。制造氟化物。铜类清洁剂。玻璃蚀刻。

理化性  氢氟是氟化氢气体的水溶液,为无透明至淡黄冒*液体。有刺激性气味。   分子式 :HF·H2O   相对密度1.15~1.18。   沸点112.2℃(按重百分比计为38.2%)。   市售通常浓度:约47% ,其溶的分数可达35.35%。为高度危害物。浓时的密度1.14g/cm3   沸点393.15K(120℃)。   具有弱性,但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解有别。腐蚀性强,对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。   用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3的混)。因为氢原子和氟原子间结合弟力相对较强,使得氢氟在水中不能完全电离。   氢氟能够溶解很多其他都不能溶解的玻璃(二氧化硅),生成气态的四氟化硅 反应方程式如下:   SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2 H2O(l)  生成的SiF4可以继续和过的HF作用,生成氟硅:   SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq),氟硅是一种二元强。   正因如此,它必须储存在塑料(理论上讲,放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好)、蜡制或铅制的容器中。氢氟没有还原性。如果要储存,不仅需要一个密封容器,而且容器中应尽可能将空气排尽。   工制法:工上用萤石(氟化钙CaF2)和浓来制造氢氟。加热到250℃时,这两种物便反应生成氟化氢。反应方程式为:   CaF2 + H2SO4 (浓)→(加热) 2 HF + CaSO4  这个反应生成的蒸气是氟化氢、和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。   氟气与氢气混合后,生成氟化氢   F2(g)+H2(g)=2HF(g)

用途

  由于氢氟溶解氧化物弟力,它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟也用来蚀刻玻璃,半导体工使用它来除去硅表面的氧化物,在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷化反应的催化剂,除去不锈钢表面的含氧杂的“浸”过程中也会用到氢氟。氢氟也用于多种含氟有机物的合成,比如Teflon(聚四氟乙烯)还有氟利昂一类的致冷剂。 

理化性  氢氟是氟化氢气体的水溶液,为无透明至淡黄冒*液体。有刺激性气味。   分子式 :HF·H2O   相对密度1.15~1.18。   沸点112.2℃(按重百分比计为38.2%)。   市售通常浓度:约47% ,其溶的分数可达35.35%。为高度危害。浓时的密度1.14g/cm3   沸点393.15K(120℃)。   具有性,但浓时的电离度比稀时大而与一般弱电解有别。腐蚀性强,对牙、骨损害较严重。对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。   用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片(与HNO3的混)。因为氢原子和氟原子间结合弟力相对较强,使得氢氟在水中不能完全电离。   氢氟能够溶解很多其他都不能溶解的玻璃(二氧化硅),生成气态的四氟化硅 反应方程式如下:   SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2 H2O(l)  生成的SiF4可以继续和过的HF作用,生成氟硅:   SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq),氟硅是一种二元。   正因如此,它必须储存在塑料(理论上讲,放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好)、蜡制或铅制的容器中。氢氟没有还原性。如果要储存,不仅需要一个密封容器,而且容器中应尽可能将空气排尽。   工制法:工上用萤石氟化钙CaF2)和来制造氢氟。加热到250℃时,这两种物便反应生成氟化氢。反应方程式为:   CaF2 + H2SO4 (浓)→(加热) 2 HF + CaSO4  这个反应生成的蒸气是氟化氢、和其他几种副产品的混合物。在此之后氟化氢可以通过蒸馏来提纯。   氟气氢气混合后,生成氟化氢   F2(g)+H2(g)=2HF(g)

用途

 由于氢氟溶解氧化物弟力,它在铝和铀的提纯中起着重要作用。氢氟也用来蚀刻玻璃,半导体工使用它来除去硅表面的氧化物,在炼油厂中它可以用作异丁烷和丁烷的烷化反应的催化剂,除去不锈钢表面的含氧杂的“浸”过程中也会用到氢氟。氢氟也用于多种含氟有机物的合成,比如Teflon(聚四氟乙烯)还有氟利昂一类的致冷剂。

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