分类 | 半导体水清洗剂 | 型号 | HY | | 海扬 | 箱型 | 无色无味 | PH值 | 9 | 保期 | 12 | CAS | 27323-41-7 |
一、海扬除焦炭水清洗剂主要用途: 除焦炭水清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。 二、特性与点: 该清洗剂清洗效果相当于或略于传统清洗工艺,成本却大大降低,只有传统清洗工艺成本的10~30%,而且无无腐蚀性、对人体无危害、对环境无污染,经济效益显著。 三、应用范围: 除焦炭水清剂在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。 四、技术指标: 外观: 淡黄液体 PH值: 8~10 粘度: 80-160 有效活性物含:>40% 有害金属杂含:<1ppm 五、使用方法: 配制清洗液时,将去离子水加热到40-60℃,但不要超过60℃。或者用室温去离子水配制亦可。然后按下列体积比进行配制。水清洗剂:去离子水=1:19将配制好的水清洗剂倒入石英杯中,清洗液应浸没过硅片或晶体为宜,然后将石英杯置于超声波清洗设备中(槽中应加适的去离子水)进行超声波清洗5分钟左右,倒掉清洗液,再用热去离子水冲洗5分钟左右,以冲净为宜。清洗大硅片或晶体时采用清洗机进行清洗更为方便。 六、海扬服务 1、免费赠送样品,还可以根据客户要求,研发新产品,广东省内样品12小时送达,省外24小时送达。 2、寄样内容:产品样品(200ml、产品检测报告(物理指标和化学指标)、产品说明书(应用范围和用法)、SGS报告(国家环保检测报告))、MSDS报告(国家安全检测报告) 3、技术支持:任何关于产品在应用和用法方面的问题,都可以免费咨询我们的技术工程师家,让您方便、简单、快捷、省时、省力的使用我们的产品。 更多详情: 手机:18926435987,18098914506 :0755-89687506,传真:0755-84696656 在线QQ:2690075746
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