一、真空炉热处理炉用途
真空炉热处理适用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物成分测等。
二、真空炉热处理炉特点
1、加热元件360度均布，炉温均匀性高，冷室监控标配。
2、该设备分热室和冷室，生产，使用成本低。
3、淬火油槽安装搅拌器（可调速），工件变形小，冷却均匀性高，操作简捷，编程工艺可多步输入， 机械动作稳定，手动/自动控制，故障自动报警/显示。
三、真空炉热处理炉参数
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型号
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加热有效区
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装炉
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加热元件
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加热功率
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高温度
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均温性
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极限真空度
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压升率
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气冷压强
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mm
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Kg
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Ω
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Kw
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℃
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±℃
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Pa
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Pa/h
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bar
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TDRG2-644
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600×400×400
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200
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石墨/钼
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70
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1320
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5
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4.0E-1/6.7E-3
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≤0.60
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≤2
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TDRG2-755
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750×500×500
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300
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石墨/钼
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80
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TDRG2-966
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900×600×600
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500
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石墨/钼
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120
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TDRG2-1288
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1200×800×800
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800
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石墨/钼
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240
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注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！
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