| 利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术，是率先发展起来的真空镀膜方式，具有沉积速率高、结合牢固、设备运行稳定等点，我们在传统多弧的础上，对靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改进和设计，提高了离化率、细化颗粒，膜层和材结合更加牢固、膜层更加致密，硬度耐磨性显著提高，厚度可以控制在0.5微米—5微米之间，是普通装饰镀和工具镀膜的机型。 根据市场的需求公司研制出辅助阳极、磁过滤、矩形平面靶、圆柱旋转电弧靶等衍生产品，沉积的膜层达到纳米级，是制备高硬度、高结合力、高耐膜性ta-C、DLC、高金属膜层的良好选择。 技术参数: ▲真空室箱体：主要规格有800*1000mm、1000*1200mm、1200*1500mm、1500*1600mm、1800*1950mm，并可以根据客户具体要求设计非标产品。▲夹具方式：采用公自转行星式齿轮结构，工件速度在1-15转/分钟可调，挂具有6轴、8轴、10轴、12轴等各种规格，适合不同大小尺寸的装饰、工具镀膜。▲控制气体方式：采用流计控制，进气稳定，反应速度快，可以配加自动压强控制。▲靶:采用整体制造技术，结构合理而简单，维护更换靶材方便，具有自动/手动引弧功能。▲电源：配置直流脉冲电源（电压、占空比可调节），逆变电弧电源。▲抽气系统：采用国产机械泵、罗茨泵、扩散泵，根据其真空室大小确定合理型号。也可以根据客户的需要配备分子泵或者进口泵等。▲抽真空参数：从大气抽至5*10￣3Pa≤15min极限真空度8*10￣4Pa控制系统可以选用手动控制；计算机控制，触摸屏面板控制。 |
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